四甲基氫氧化銨(TMAH)溶液，在晶片生產(chǎn)中用作CMP(化學機械拋光)預清洗劑，或在半導體領(lǐng)域的光刻工藝中作為顯影劑。為了*潤濕晶片表面，通常會在TMAH溶液中加入表面活性劑以降低其表面張力。確保一個穩(wěn)定且不與表面幾何形狀相關(guān)的蝕刻過程。
動態(tài)表面張力(隨時間變化的潤濕行為)對涂層的均勻性和一致性有著非常重要的影響，靜態(tài)測量法如吊片和拉環(huán)的方法并不適用于這類問題的分析，因為他們測量的是靜態(tài)表面張力而非動態(tài)表面張力。此外，使用靜態(tài)法測量后，必須對測試設備進行非常復雜的清洗，這會耗費大量的時間。德國SITA公司根據(jù)不同的應用領(lǐng)域，提供不同的解決方案以檢測槽液配方的表面張力。基于創(chuàng)新的氣泡壓力法，SITA表面張力儀可以、快速的測量動態(tài)表面張力，從動態(tài)到準靜態(tài)的表面張力 。
SITA DynoTester是一個非常靈活、輕便的手持式表面張力測試儀，非常適用于工藝過程中質(zhì)量的監(jiān)控，可進行現(xiàn)場測量，測試時間短，測試結(jié)果能立即與所需值作對比。因此，SITA DynoTester 可對TMAH溶液的潤濕性能進行簡便快捷的分析。操作簡單，無需任何專業(yè)經(jīng)驗，儀器的所有功能都可通過儀器上的按鍵實現(xiàn)。
對于高要求的TMAH溶液，以及需對檢測結(jié)果進行連續(xù)監(jiān)控的情況，SITA 公司推薦使用過程監(jiān)控系統(tǒng)--SITA Clean Line ST。這一系統(tǒng)直接集成在工藝過程中，定期測量表面張力，并在設定的范圍內(nèi)自動比較數(shù)據(jù)，因此我們可在表
面活性劑濃度超出限定值后，在短時間內(nèi)采取相關(guān)處理措施。設備至少可以儲存一整年的測試數(shù)據(jù)，如果需要進行長期數(shù)據(jù)存儲，則可以通過USB 端口將數(shù)據(jù)傳輸?shù)接嬎銠C。 SITA的表面張力儀可以可靠的監(jiān)控槽液的質(zhì)量，為研發(fā)和清洗工藝過程建立良好的基礎進而獲得高質(zhì)量結(jié)果。此外，表面張力檢測還能避免過量使用表面活性劑，從而降低生產(chǎn)成本。
SITA Dynotester 表面張力儀
